指導老師：林俊宏
經歷：
國立成功大學 光電科學與工程學系 副教授 (2011.8~now)
國立成功大學 微奈米科技研究中心 共同實驗室組組長 (2015.2~now)
國立成功大學 微奈米科技研究中心 行政組組長 (2013.8~2015.1)
國立成功大學 光電科學與工程研究所 助理教授 (2007.8~2011.7)
國家奈米元件實驗室 副研究員 (2004.9~2007.8)
國家高速網路與計算中心 奈米科學研究計畫 博士後研究員 (2003.9~2004.8)
台灣積體電路製造股份有限公司 Advanced Lithography Technology Dept./Micro Patterning Technology Division 主任工程師 (2002.3~2003.9)
奈米光電實驗室 徵求碩、博士班學生以及大學部專題生。
有興趣加入本實驗室的同學可與林俊宏老師聯絡。
(可先寫 email 約定進ㄧ步瞭解的時間)
電話： (06) 275-7575 #63934
Email: chlin@mail.ncku.edu.tw
可申請大專生專題計畫，國科會有獎助學金補助。
本實驗室除了自行建立奈米壓印微影技術，並結合成大微奈米中心、NDL國家奈米元件實驗室完善的奈米製程設備資源，同學在本實驗室、成大微奈米中心及國家奈米元件實驗室，可獲得完善的半導體製程訓練，並將此作為研究奈米電元件的堅強後盾。
目前有多位畢業同學在台積電研發部門工作。
研究領域：
本實驗室的研究主要可以分為兩個方向：
1. 奈米技術研究
2. 奈米結構與技術應用於奈米光電及生醫領域
在半導體製程技術中，微影(Lithography)技術 (電子束微影術影片介紹) 不但是實現積體電路微小化的關鍵性技術之一，而且是半導體製程中最重要的一環，在現今先進半導體製程中，微影製程已經佔了整個半導體製造總成本的三分之一以上，由此可見其重要性。微影技術除了在奈米電子的製造扮演重要性的角色之外，亦是具體實現應用在光電、機械、生物等領域之各式奈米元件的關鍵性製程技術；各式光電元件的微型化與效能增進(舉凡顯示器元件、LED發光元件、太陽能電池元件等)，均需微影技術的支持。由於奈米技術的實現，使得奈米光電的研究開創了許多過去所無法達到的可能性。
n 新世代微影技術(Next-generation lithography)
u 奈米壓印微影術(Nanoimprint lithography)
u 極紫外光微影術(Extreme ultraviolet lithography)
u 電子束微影術(Electron beam lithography) (奈米科學網)
n 光學微影術(Optical lithography) (奈米科學網)
u 雷射干涉微影(Interference lithography)
n 光子晶體(Photonic crystal) (奈米科學網)
u 可高自由度地操控光線的行進
u 應用
l 光子晶體光纖(Photonic-crystal fiber)
l 提昇Solar cell效率 (奈米科學網)
l 高效能抗反射與高反射光學鍍膜(ㄧ維光子晶體)
u 負折射率材料(Negative index metamaterials) (奈米科學網)
u 超級透鏡(Superlens) (奈米科學網1) (奈米科學網2)
u 隱形超穎材料(Metamaterial cloaking) (奈米科學網1) (奈米科學網2)
u 超穎天線(Metamaterial antennas) (奈米科學網)
n 表面電漿共振(Surface plasmon resonance)
u 生物感測器(Biosensor) (奈米科學網1) (奈米科學網2)
u 異常光學穿透現象(Extraordinary optical transmission) (奈米科學網)
u 利用光驅動的奈米電漿子馬達 (奈米科學網)
n 奈米高效率抗反射、高效率高穿透結構
u 顯示面板應用 (奈米科學網)
u 可撓式LED發光 (奈米科學網)
本實驗室目前及未來進行之研究：
² 微影技術/奈米製造(Lithography and nano-fabrication)
n 奈米壓印微影技術(Nano-imprint lithography) [Ref. 5,6,8,15]
u 熱壓式奈米壓印(Thermoplastic nanoimprint lithography)
u 紫外光固化奈米壓印(Photo nanoimprint lithography)
u 奈米金屬直接壓印
u 軟性基板(Flexible substrate)材料直接壓印
n 極紫外光(Extreme UltraViolet, EUV) 微影技術(用於22 nm及22 nm以下之微影技術) (奈米國家型科技三年計畫) [Ref. 5,7,17]
u EUV 光罩分析研究
u EUV 干涉式微影術(interferometric lithography) 系統建置及研究
u EUV 穿透式光柵(transmission grating) 之設計及研製
n 電子束微影技術(E-beam lithography)
u 低能量電子散射之Monte-Carlo模擬(台積電計畫) [Ref. 2]
u 電子束微影技術之鄰近效應研究(E-beam proximity effect: experiment, modeling and correction)
n 先進光學微影技術(Optical lithography)
u 雷射干涉微影(Interference lithography) [Ref. 3]
u 先進光學微影技術(Optical analysis for resolution enhancement technologies) [Ref. 16,17]
u 應用[Ref. 21]
n 由下而上奈米製造技術(Bottom-up nano-fabrication)，例如：奈米材料研究、自組裝奈米製程技術 [Ref. 9,19,22]
² 奈米光學(Nano-photonics)
n 光子晶體(Photonic crystal)
n 光學超穎材料(Metamaterial) [Ref: 6,10]
n 表面電漿波(Surface plasmonic resonance) [Ref: 6,10,15]
n 光學偏振元件(Polarizer) [Ref: 8,11]
n 能源科技應用研究
u 寬頻光學抗反射微奈米結構研究(Broadband antireflective sub-wavelength structure) [Ref: 9,18,19, 20,21]
n 軟性光學元件 [Ref. 8]
n 奈米壓印應用於液晶顯示器配向層，於廣視角之應用研究。
² 光學奈米檢測技術(Nano-metrology) [Ref: 4,7]
² 光學計算(Optical computing)：發展微奈米結構三維電磁波計算，用以預測及驗證微奈米結構之光學特性
n 精確耦合波分析(Rigorous Coupled-Wave Analysis, RCWA) [Ref. 3,4,5,6,7,8,9,10,11,16,17,18,19,20,21]
n 電磁波有限差分時域法(Finite-Difference Time-Domain, FDTD)
n 有限元素分析法 (Finite element method)
² 奈米生醫(Nano-biology)
n 組織工程(Tissue engineering)、仿生材料 [Ref. 1,36,38]
References 請參見 Publications