奈米光電實驗室

指導老師：林俊宏

經歷：

2015.8~present 國立成功大學光電科學與工程學系教授

2015.2~2016.7 國立成功大學微奈米科技研究中心共同實驗室組組長

2013.8~2015.1 國立成功大學微奈米科技研究中心行政業務組組長

2011.8~2015.7 國立成功大學光電科學與工程學系副教授

2007.8~2011.7 國立成功大學光電科學與工程研究所助理教授

2004.9~2007.8 國家奈米元件實驗室副研究員

2003.9~2004.8 國家高速網路與計算中心奈米科學研究計畫博士後研究員

2002.3~2003.9 台灣積體電路製造股份有限公司 Advanced Lithography Technology Dept./Micro Patterning Technology Division 主任工程師

奈米光電實驗室 徵求大學部專題生。

l 推薦表現優良同學申請台積電研究助理獎助學金。

l 可選擇申請大專生專題計畫，國科會有獎助學金補助。

l 可選擇參與台積電計劃，推薦表現優良同學參與台積電暑期實習。

執行中計畫：

l 國科會計畫 (超穎介面晶片光譜儀:設計、製作及生醫應用)

l 台積電計畫

l 日月光計畫

學生榮譽事蹟：

l 2023 林○○同學榮獲台積電研究助理獎助學金

l 2023 陳○○同學獲得國科會補助大專學生研究計畫

l 2023 洪○○同學獲聘參與台積電暑期實習

l 2023 洪○○同學榮獲台積電研究助理獎助學金

l 2023 許○○同學榮獲台積電研究助理獎助學金

有興趣加入本實驗室的同學可與林俊宏老師聯絡。
(可先寫 email 約定進ㄧ步瞭解的時間)

電話： (06) 275-7575 #63934

Email: chlin@ncku.edu.tw

本實驗室除了自行建立奈米壓印微影技術，並結合成大核心設施中心、國研院台灣半導體研究中心完善的奈米製程設備資源，同學在本實驗室、成大微奈米中心及國家奈米元件實驗室，可獲得完善的半導體製程訓練，並將此作為研究奈米電元件的堅強後盾。

目前多位畢業碩、博士同學在台積電研發部門工作。

研究領域：

本實驗室主要致力於奈米微影/奈米製造技術研究，以及應用奈米技術於奈米光電及生醫應用研究。

在半導體製程技術中，微影(Lithography)技術 (電子束微影術影片介紹) 不但是實現積體電路微小化的關鍵性技術之一，而且是半導體製程中最重要的一環，在現今先進半導體製程中，微影製程已經佔了整個半導體製造總成本的三分之一以上，由此可見其重要性。微影技術除了在奈米電子的製造扮演重要性的角色之外，亦是具體實現應用在光電、機械、生物等領域之各式奈米元件的關鍵性製程技術；各式光電元件的微型化與效能增進(舉凡顯示器元件、LED發光元件、太陽能電池元件等)，均需微影技術的支持。由於奈米技術的實現，使得奈米光電的研究開創了許多過去所無法達到的可能性。

以下相關研究之專有名詞，可參考維基百科或奈米科學網：

l 奈米微影術(Nanolithography)

n 新世代微影技術(Next-generation lithography)

u 奈米壓印微影術(Nanoimprint lithography)

u 極紫外光微影術(Extreme ultraviolet lithography)

u 電子束微影術(Electron beam lithography) (奈米科學網)

n 光學微影術(Optical lithography) (奈米科學網)

u 雷射干涉微影(Interference lithography)

l 奈米光電(Nanophotonics)

n 光子晶體(Photonic crystal) (奈米科學網)

u 可高自由度地操控光線的行進

u 應用

l 光電腦(Optical computer)

l 光子晶體光纖(Photonic-crystal fiber)

l 提昇LED發光效率 (奈米科學網1) (奈米科學網2)

l 提昇Solar cell效率 (奈米科學網)

l 高效能抗反射與高反射光學鍍膜(ㄧ維光子晶體)

n 光學超穎材料(Metamaterial)

u 負折射率材料(Negative index metamaterials) (奈米科學網)

u 超級透鏡(Superlens) (奈米科學網1) (奈米科學網2)

u 超級菱鏡(Superprism)

u 隱形超穎材料(Metamaterial cloaking) (奈米科學網1) (奈米科學網2)

u 超穎天線(Metamaterial antennas) (奈米科學網)

n 表面電漿共振(Surface plasmon resonance)

u 生物感測器(Biosensor) (奈米科學網1) (奈米科學網2)

u 異常光學穿透現象(Extraordinary optical transmission) (奈米科學網)

u 利用光驅動的奈米電漿子馬達 (奈米科學網)

n 奈米高效率抗反射、高效率高穿透結構

u 顯示面板應用 (奈米科學網)

u 太陽能電池應用 (奈米科學網1) (奈米科學網2)

u 可撓式LED發光 (奈米科學網)

實驗室研究成果：

見以下研究分類整理(部分研究會同時包含多個領域)。

1. A.K. Sahoo, P.H. Chen, C.H. Lin*, R.S. Liu*, B.J. Lin*, T.S. Kao, P.W. Chiu, T.P. Huang, W.Y. Lai, J. Wang, Y.Y. Lee, and C.K. Kuan, “Development of EUV Interference Lithography for 25 nm Line/space patterns,” Micro and Nano Engineering 20, 100215 (2023).

2. H.L. Ho, J.Y. Yang, C.H. Lin, J. Shieh*, Y. Fang Huang, Y.H. Ho, T.S. Ko, C.C. Hsu, K.K. Ostrikov, “Plasma-Etched Nanograss Surface without Lithographic Patterning to Immobilize Water Droplet for Highly Sensitive Raman Sensing,” Adv. Mater. Interfaces 10, 2300291 (2023). (IF: 5.4)
此研究成果獲選為該雜誌之Journal Cover！

3. Y.J. Huang, W.H. Chang*, Y.J. Chen, and C.H. Lin*, “Synthesis of Metal/SU-8 Nanocomposites through Photoreduction on SU-8 Substrates,” Nanomaterials 13, 1784 (2023). (IF: 5.3)

4. Z.Y. Yang, W.H. Chang*, Y.C. Chiu, and C.H. Lin*, “Non-Invasive Detection of Bladder Cancer Markers Based on Gold Nanomushrooms and Sandwich Immunoassays,” ACS Applied Nano Materials 6, 5557-5567 (2023). (IF: 5.9)
此研究成果獲選為該雜誌之Journal Cover！

5. C.R. Sheu, T.J. Wang, and C.H. Lin*, “Homeotropic liquid crystal alignments through periodically unidirectional nano-wedges patterned by nanoimprint lithography,” Micro and Nano Engineering 12, 100090 (2021).

6. Y.J. Chen, W.H. Chang*, and C.H. Lin*, “Selective Growth of Patterned Monolayer Gold Nanoparticles on SU-8 through Photoreduction for Plasmonic Applications,” ACS Applied Nano Materials 4, 229-235 (2021). (IF: 5.9)

7. Y.J. Chen, W.H. Chang*, C.Y. Li, Y.C. Chiu, C.C. Huang, and C.H. Lin*, “Direct synthesis of monolayer gold nanoparticles on epoxy based photoresist by photoreduction and application to surface-enhanced Raman sensing,” Materials & Design 197, 109211 (2021). (IF: 8.4)

8. C.W. Lin, S.H. Chang, C.C. Huang, C.H. Lin*, “Plasmonic nanocavities fabricated by directed self-assembly lithography and nanotransfer printing and used as surface-enhanced Raman scattering substrates,” Microelectron. Eng. 227, 111309 (2020). (IF: 2.3)

9. W.H. Chang*, Z.Y. Yang, T.W. Chong, Y.Y. Liu, H.W. Pan, and C.H. Lin*, “Quantifying Cell Confluency by Plasmonic Nanodot Arrays to Achieve Cultivating Consistency,” ACS Sensors 4, 1816-1824 (2019). (IF: 8.9)

10. C.Y. Hu and C.H. Lin*, “A comparative study of inelastic scattering models at energy levels ranging from 0.5 keV to 10 keV,” Nucl. Instrum. Meth. B 394, 103-112 (2017). (IF: 1.3)

11. C.C. Liang, W.H. Chang, and C.H. Lin*, “Nanotransfer printing of plasmonic nano-pleat arrays with ultra-reduced nanocavity width using perfluoropolyether molds,” J. Mater. Chem. C 4, 4491-4504 (2016). (IF: 6.4)

12. C.C. Liang, C.H. Lin*, T.C. Cheng, J. Shieh, and H.H. Li, “Nanoimprinting of Flexible Polycarbonate Sheets with a Flexible Polymer Mold and Application to Superhydrophobic Surfaces,” Adv. Mater. Interfaces 2, 1500030 (2015). (IF: 5.4)
此研究成果獲選為該雜誌之Back Cover！

13. C.Y. Hu and C.H. Lin*, “Reverse ray tracing for transformation optics,” Opt. Express 23, 17622-17637 (2015). (IF: 3.8)

14. C.H. Lin, J. Shieh*, C.C. Liang, C.C. Cheng, and Y.C. Chen, “Decreasing reflection through the mutually positive effects of nanograss and nanopillars,” J. Mater. Chem. C 2, 3645-3650 (2014). (IF: 6.4)

15. C.H. Lin*, Y.C. Lin, and C.C. Liang, “Solid immersion interference lithography with conformable phase mask,” Microelectron. Eng. 123, 136-139 (2014). (IF: 2.3)

16. W.Y. Chen, C.H. Lin*, and W.T. Chen, “Plasmonic phase transition and phase retardation: Essential optical characteristics of localized surface plasmon resonance,” Nanoscale 5, 9950-9956 (2013). (IF: 6.7)

17. W.Y. Chen and C.H. Lin*, “Off-plane diffraction of extreme ultraviolet light caused by line width roughness,” Thin Solid Films 522, 79-84 (2012). (IF: 2.1)

18. C.H. Lin*, Y.M. Lin, C.C. Liang, Y.Y. Lee, H.S. Fung, B.Y. Shew, and S.H. Chen, “Extreme UV diffraction grating fabricated by nanoimprint lithography,” Microelectron. Eng. 98, 194-197 (2012). (IF: 2.3)

19. C.C. Liang, M.Y. Liao, W.Y. Chen, T.C. Cheng, W.H. Chang, and C.H. Lin*, “Plasmonic metallic nanostructures by direct nanoimprinting of gold nanoparticles,” Opt. Express 19, 4768-4776 (2011). (IF: 3.8)

20. C.H. Lin*, C.H. Fong, Y.M. Lin, Y.Y. Lee, H.S. Fung, B.Y. Shew, and J. Shieh, “EUV interferometric lithography and structural characterization of an EUV diffraction grating with nondestructive spectroscopic ellipsometry,” Microelectron. Eng. 88, 2639-2643 (2011). (IF: 2.3)

21. C.H. Lin*, H.H. Lin, W.Y. Chen, and T.C. Cheng, “Direct imprinting on a polycarbonate substrate with a compressed air press for polarizer applications,” Microelectron. Eng. 88, 2026-2029 (2011). (IF: 2.3)

22. C.T. Wu, C.H. Lin, C. Cheng, C.S. Wu, H.C. Ting, F.C. Chang, and F.H Ko*, “Design of Artificial Hollow Moth-Eye Structures Using Anodic Nanocones for High-Performance Optics,” Chem. Mater. 22, 6583-6589 (2010). (IF: 8.6)

23. W.Y. Chen and C.H. Lin*, “A standing-wave interpretation of plasmon resonance excitation in split-ring resonators,” Opt. Express 18, 14280-14292 (2010). (IF: 3.8)

24. S.Y. Chuang, H.L. Chen*, J. Shieh, C.H. Lin, C.C Cheng, H.W. Liu, and C.C. Yu, “Nanoscale of biomimetic moth eye structures exhibiting inverse polarization phenomena at the Brewster angle,” Nanoscale 2, 799-805 (2010). (IF: 6.7)